SFE-2型超臨界細微粒子制備系統(tǒng)

一、設備概述：

超細微粒，特別是納米級粒子的研制，在材料、化工、輕工、冶金、電子、生物醫(yī)學領域得到廣泛應用，利用超臨界流體制備細微粒子這一技術，可以進行顆粒、微球、微膠囊、多孔材料、脂質體及其它微細材料的加工和制備。

超細粒子的制備有多種方法，超臨界流體沉積技術是運用較多的一種方法，能夠更準確的控制結晶過程，生產出平均粒徑很小的細微粒子，并且還可控制其粒度尺寸的分布，得到較為均一穩(wěn)定的粒子產物。

超臨界流體沉積方法有SAS、GAS、SESS、SEDS、PGSS等，其運用很廣的則是以下兩種：RESS（超臨界溶液快速膨脹）法和GAS（氣體抗溶劑結晶）法，不僅粒度控制均勻，而且比較容易實現量產。

二、應用領域：

由于納米粒子具有小尺寸效應、表面與界  面效應、量子效應、宏觀量子隧道效應和催化效應。因此，它在催化性能、光學性能、磁性能、增強增韌性能、儲氫性能和潤滑性能等方面都具有特異功能。從而獲得了廣泛的應用。主要應用于：催化劑、納米電子器件、傳感器、磁性材料、光學和隱身材料以及增韌補強材料、生物醫(yī)學材料。     在增強結構材料方面，有納米顆粒增強材料、納米晶須、纖維增強材料、納米顆粒助燒結材料、納米焊接技術。  

    在磁性材料方面有納米巨磁電阻材料、納米磁記錄材料、納米微晶軟磁材料、納米微晶稀土永磁材料、納米磁制冷工質材料。

    在生物材料方面有納米復合牙齒替代材料、納米復合骨替代材料。

    在半導體方面有納米溫敏材料、納米壓敏材料、納米濕敏材料、納米氣敏材料、納米光敏材料。

在光學隱身材料方面有納米光學隱身材料，其中又分為可見光隱身、微波隱身、紅外隱身和激光隱身等。

三、SFE-2型超臨界細微粒子制備系統(tǒng)主要技術指標：